0755-29356509
Tiếng Việt
0755-29356509
Hệ thống đo nhiệt độ wafer RTD sử dụng công nghệ cốt lõi tự nghiên cứu để tích hợp cảm biến RTD trên bề mặt wafer, giám sát và ghi lại dữ liệu thay đổi nhiệt độ của wafer trong quá trình sản xuất theo thời gian thực, cung cấp cho quy trình sản xuất bán dẫn một phương pháp hiệu quả và đáng tin cậy để giám sát và tối ưu hóa các thông số công nghệ then chốt. Có khả năng chống nhiễu mạnh, có thể hoạt động trong môi trường khắc khô (dry etch) và giám sát chính xác nhiệt độ quy trình khắc; có thể đạt được giám sát chính xác nhiệt độ quy trình trong môi trường nhiệt độ cao.
【Phạm vi ứng dụng】Lắng đọng màng mỏng PVD, CVD
【Lợi thế sản phẩm】
1. Đo nhiệt độ chính xác cao ±0.05℃: Cảm biến RTD cung cấp khả năng đọc nhiệt độ với độ chính xác cao, đảm bảo các bước quan trọng trong quy trình sản xuất bán dẫn được thực hiện ở nhiệt độ tối ưu, từ đó duy trì chất lượng sản phẩm.
2. Thu thập dữ liệu nhiệt độ theo thời gian thực: RTD Wafer cho phép giám sát biến động nhiệt độ của wafer trong quá trình xử lý nhiệt và khắc, giúp điều chỉnh thông số quy trình kịp thời, tối ưu hóa hiệu suất sản xuất.
3. Khả năng phân tích dữ liệu nhiệt độ: Dữ liệu đo lường được phân tích bằng phần mềm để tối ưu hóa thông số quy trình, nâng cao sản lượng và chất lượng sản phẩm.
4. Hỗ trợ điều chỉnh và xác thực quy trình: Thông qua phân tích dữ liệu nhiệt độ thu thập trong điều kiện quy trình sản xuất, có thể điều chỉnh các điều kiện khắc và các bước quan trọng khác để đảm bảo hiệu suất tối ưu.
5. Giám sát toàn diện phân bố nhiệt: Hỗ trợ theo dõi đồng thời nhiệt độ tại tối đa 81 vị trí trên wafer, cung cấp bản đồ phân bố nhiệt chi tiết.
