**MÁY LÀM SẠCH WAFER**  

**Giới thiệu máy:**  

Thiết bị chuyên dùng để **làm sạch bụi mịn trên bề mặt wafer**, sử dụng công nghệ **rửa bằng nước siêu sạch áp lực cao kết hợp hệ thống khí-nước (2 chất lưu)**, giúp loại bỏ hiệu quả hạt bụi trên bề mặt Holder, CMOS và wafer.  

**Đối tượng làm sạch:**  

- Bụi silicon, bụi công nghiệp, vụn sắt trên bề mặt module camera điện thoại  

**Phương pháp làm sạch:**  

- **Phun xoay bằng hệ 2 chất lưu** + **Sấy khô ly tâm**  

---  

### **ĐẶC ĐIỂM MÁY**  

✔ Thiết bị chuyên dụng làm sạch **bụi và tạp chất** trên wafer  

✔ Thân máy kín **inox gương** nguyên khối, **không phát tán ô nhiễm**, đạt chuẩn phòng sạch  

✔ **Khay rửa thay thế được** - thiết kế tùy chỉnh theo sản phẩm  

✔ Điều khiển tự động bằng **PLC**, vận hành đơn giản  

✔ Cửa trước **kính chống vỡ**, an toàn và dễ quan sát  

✔ Hệ thống hiển thị thông số thời gian thực  

✔ Công nghệ **2 chất lưu**: Độ chính xác cao, **không làm hại sản phẩm**, tiêu thụ nước siêu sạch tối thiểu  

✔ **Thanh phun xoay** - ngăn ngừa tái nhiễm bẩn  

✔ Trang bị:  

- **Hệ thống khử tĩnh điện**  

- **Bộ gia nhiệt thành buồng**  

- **Lọc khí 2 cấp** (đạt chuẩn ISO8573.1)  

✔ Thiết kế **compact**, tiết kiệm diện tích  

✔ Sử dụng **nước siêu sạch (Ultra-Pure Water)**, tuân thủ **RoHS**